Ο στόχος επίστρωσης είναι μια πηγή επιμετάλλωσης που σχηματίζει διάφορες λειτουργικές μεμβράνες στο υπόστρωμα με ψεκασμό υπό κατάλληλες συνθήκες διεργασίας μέσω επιμετάλλωσης μαγνητρόν, επιμετάλλωσης ιόντων πολλαπλών τόξων ή άλλων τύπων συστημάτων επίστρωσης. Οι εμπορικές μας σχέσεις με τους πελάτες στη Σιγκαπούρη γίνονται όλο και πιο στενές. Στις αρχές Φεβρουαρίου, είπαν ότι είχαν λάβει τα προϊόντα μας Boron Round Sputter Target και επαίνεσαν την ποιότητα επεξεργασίας και την ταχύτητα παράδοσης. Είχαμε μια λεπτομερή συζήτηση για τις λεπτομέρειες παραγγελίας του προϊόντος πριν την αποστολή. Τα δύο μέρη κατέληξαν σε συναίνεση ομαλά και δημιούργησαν μια πολύ καλή σχέση συνεργασίας. Η FANMETAL ήταν πάντα δεσμευμένη στην παροχή προϊόντων από μη σιδηρούχα μέταλλα υψηλής ποιότητας και συνέχισε να βελτιώνει την τεχνολογία παραγωγής και τη συμπεριφορά εξυπηρέτησης. Μπορείτε να παραγγείλετε τα προϊόντα μας με σιγουριά.
Το 99,5% Boron Sputtering Targets είναι ένα υλικό που χρησιμοποιείται για την προετοιμασία λεπτής μεμβράνης. Κατασκευάζεται από υλικά βοριδίου μέσω διαδικασίας μεταλλουργίας σκόνης (πρεσάρισμα μεταλλικής σκόνης σε υψηλή θερμοκρασία και υψηλή πίεση) ή μέθοδο τήξης τόξου κενού (θέρμανση με τόξο σε θάλαμο κενού). Λιωμένο και στη συνέχεια στερεοποιήθηκε στο στόχο), έχει εξαιρετικές ιδιότητες όπως υψηλή απόδοση επεξεργασίας, υψηλή θερμική σταθερότητα, υψηλή πυκνότητα, καλή αντοχή στη διάβρωση, υψηλή μηχανική αντοχή, υψηλή ποιότητα επίστρωσης, αντοχή στη φθορά και μεγάλη διάρκεια ζωής. Το Boron Sputtering Target χρησιμοποιείται κυρίως για την προετοιμασία διαφόρων λειτουργικών μεμβρανών, όπως σκληρές επιστρώσεις, μαγνητικές μεμβράνες, οπτικές μεμβράνες, αντιανακλαστικές μεμβράνες κ.λπ., για διασκορπισμό σε ηλεκτρονικό εξοπλισμό, τσιπ ημιαγωγών, ηλιακά κύτταρα, οπτικές συσκευές και άλλες υψηλής ποιότητας διακοσμητικά προϊόντα περιμένουν.
