Ο στόχος διασκορπισμού αναφέρεται στην πρώτη ύλη που χρησιμοποιείται στη διαδικασία εναπόθεσης διασκορπισμού, η οποία αναφέρεται στη διαδικασία εκτόξευσης ατόμων από τον στερεό στόχο λόγω του βομβαρδισμού του στόχου από σωματίδια υψηλής ενέργειας και η κύρια λειτουργία του είναι η εναπόθεση λεπτής μεμβράνης στο τεμάχιο εργασίας. Στα τέλη Φεβρουαρίου, παραδώσαμε τους υψηλής ποιότητας Titanium Aluminium Sputtering Targets που παράγονται από εμάς στους Γερμανούς πελάτες μας με ασφάλεια και ταχύτητα με διεθνή express. Οι Γερμανοί πελάτες ήταν πάντα ικανοποιημένοι με τα μεταλλικά προϊόντα που παρέχουμε και είναι πρόθυμοι να επικοινωνήσουν μαζί μας σε τεχνικό επίπεδο. Οι προδιαγραφές τιμής και μεγέθους των προϊόντων ανταποκρίνονται επίσης στις απαιτήσεις τους. Τα Targets Sputtering Titanium Aluminium μπορούν να παρέχονται με υποστρώματα χαλκού ή να υποστούν επεξεργασία σε άλλα μεταλλικά υποστρώματα εάν απαιτείται.
Το Titanium Aluminium Alloy Sputtering Target είναι ένας πολύ συχνά χρησιμοποιούμενος στόχος, ο οποίος μπορεί να παραχθεί με τη μέθοδο χύτευσης και τη μέθοδο θερμής ισοστατικής συμπίεσης. Έχει υψηλή ποιότητα, υψηλή καθαρότητα, ομοιόμορφη δομή, μεγάλη διάρκεια ζωής, καλή αντοχή στη διάβρωση, υψηλή θερμική αγωγιμότητα και ανταγωνιστική τιμή και άλλα πλεονεκτήματα. Οι στόχοι αλουμινίου τιτανίου χρησιμοποιούνται συχνότερα σε διακοσμητικές επιστρώσεις. Μπορούν να εναποθέσουν φιλμ με καλή σκληρότητα, υψηλή φωτεινότητα, αντοχή στη διάβρωση, αντοχή στην οξείδωση και αντοχή στο ξεθώριασμα. Χρησιμοποιούνται ευρέως σε επιστρώσεις εργαλείων υλικού, διακοσμητικές επιστρώσεις και επιστρώσεις επίπεδων οθονών. στρώμα, επεξεργασία PVD και CVD, εξαρτήματα ημιαγωγών και διάφορες μηχανές ψεκασμού μαγνητρόν και μηχανές επιμετάλλωσης ιόντων. Η FANMETL μπορεί επίσης να παρέχειΣτόχος διασκορπισμού από κράμα πυριτίου αλουμινίου, Στόχος νικελίου Sputteringκαι Chromium Sputtering Target και άλλα προϊόντα στόχων επιμετάλλωσης μετάλλων.
