Στόχος νικελίου 4Ν υψηλής καθαρότητας

Περιγραφή στόχου νικελίου διασκορπισμού υψηλής καθαρότητας 4Ν

Το High Purity 4N Nickel Sputter Target είναι κατασκευασμένο από υλικό νικελίου υψηλής καθαρότητας μετά από μεταλλουργία σκόνης και γυάλισμα σφυρηλάτησης. Μπορεί να παρασκευαστεί με ψεκασμό, εξάτμιση δέσμης ηλεκτρονίων, εναπόθεση χημικών ατμών ή ψεκασμό μαγνητρονίων. Τα φιλμ νικελίου με καλή καθαρότητα, ομοιομορφία και ισχυρή αγωγιμότητα χρησιμοποιούνται στην κατασκευή ημιαγωγών και σε ολοκληρωμένα κυκλώματα. Το High Purity 4N Nickel Sputter Target έχει εξαιρετικές ιδιότητες όπως υψηλή αντοχή και σκληρότητα, υψηλό σημείο τήξης, καλή ολκιμότητα, υψηλό φινίρισμα επιφάνειας, αντοχή στη διάβρωση, αντοχή σε κρούση, υψηλή ηλεκτρική και θερμική αγωγιμότητα, αντοχή στη φθορά, μαγνητική σταθερότητα κ.λπ. να χρησιμοποιηθεί στην αεροδιαστημική, τη βιομηχανία διακόσμησης, τη χημική τιμή, τη βιομηχανία ενέργειας, την αυτοκινητοβιομηχανία και τα εργαλεία επεξεργασίας μεταλλουργίας και άλλα πεδία για να διασκορπίσουν τα ανθεκτικά στη φθορά, αντιδιαβρωτικά, ανθεκτικά σε υψηλή θερμοκρασία μεταλλικά φιλμ που απαιτούνται.

Προδιαγραφές στόχου Nickel Sputter 4N υψηλής καθαρότητας:

Εικόνες στόχων υψηλής καθαρότητας 4Ν Nickel Sputter

Δημοφιλείς Ετικέτες: Στόχος υψηλής καθαρότητας 4n νικελίου sputter, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση