+8613140018814
Στόχος εκτόξευσης μετάλλων χρωμίου
video
Στόχος εκτόξευσης μετάλλων χρωμίου

Στόχος εκτόξευσης μετάλλων χρωμίου

Χρώμιο Metal Sputtering Target Χαρακτηριστικά & Εφαρμογή Το χρώμιο είναι ένα ατσάλι-γκρι, γυαλιστερό, σκληρό και εύθραυστο μέταλλο μεταπτώσεως, η κύρια χρήση του είναι να κατασκευάζει κράματα, όπως ανοξείδωτο χάλυβα, επιχρωμίωση και κεραμίδια, τα οποία έχουν πολύ καλή στίλβωση καθρέφτη και αντοχή στη διάβρωση. Το Sputtering είναι αποδεδειγμένο...
Αποστολή ερώτησής
Product Details ofΣτόχος εκτόξευσης μετάλλων χρωμίου

Χαρακτηριστικά στόχου και εφαρμογή Chromium Metal Sputtering

Το χρώμιο είναι ένα ατσάλι-γκρι, γυαλιστερό, σκληρό και εύθραυστο μέταλλο μετάπτωσης, η κύρια χρήση του είναι να κατασκευάζει κράματα, όπως ανοξείδωτο χάλυβα, επιχρωμίωση και κεραμίδια, τα οποία έχουν πολύ καλή στίλβωση καθρέφτη και αντοχή στη διάβρωση. Το Sputtering είναι μια δοκιμασμένη τεχνική ικανή να εναποθέτει λεπτές μεμβράνες από μια μεγάλη ποικιλία υλικών σε τεμάχια εργασίας διαφορετικών σχημάτων και μεγεθών, τα οποία μπορούν γενικά να κατηγοριοποιηθούν ως μεταλλικοί στόχοι, στόχοι από κράμα και κεραμικοί στόχοι. Η μεμβράνη που εναποτίθεται από το Chromium Metal Sputtering Target έχει τα πλεονεκτήματα της ομοιόμορφης γυαλάδας, της καλής διακόσμησης, της καλής επίστρωσης, του καλού ξεθωριάσματος, της αντοχής στην κρούση, της αντοχής σε θερμικό σοκ, της υψηλής πρόσφυσης, της καλής σφράγισης και της πολύ ανθεκτικής. Χρησιμοποιείται συνήθως σε μήτρες σφράγισης, Επικάλυψη διαφόρων εργαλείων ή καλουπιών για φρέζες, τρυπάνια, ξύστρες και κοπτήρες κοπής γραναζιών.

Τα τρέχοντα εργαλεία είναι βασικά επικαλυμμένα στο τέλος της διαδικασίας, γεγονός που μπορεί να βελτιώσει περαιτέρω την αντοχή στη φθορά και τη διάρκεια ζωής του τεμαχίου εργασίας. Το Chromium Metal Sputtering Targets έχει ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών, όχι μόνο για την τεχνολογία εναπόθεσης λεπτών φιλμ (PVD και CVD), την τεχνολογία χάραξης και ανάλυσης, τη βιομηχανία αποθήκευσης οπτικών πληροφοριών, αλλά και για την αντικατάσταση κοινών δομικών υλικών στην τήξη υπό κενό, την αεροδιαστημική, την αυτοκινητοβιομηχανία και διαστημικά πεδία κ.λπ.

Προδιαγραφές στόχου χρωμίου μετάλλου:

Βαθμός

CR009302, CR009500, CR009600, κ.λπ.

Τεχνική

Ζεστή ισοστατική συμπίεση, εξευγενισμός κόκκων, πυροσυσσωμάτωση, σφυρηλάτηση, ανόπτηση

Τύπος

Επίπεδος στόχος διασκορπισμού, Περιστροφικός στόχος διασκορπισμού, Κάθοδος Acr.

Καθαρότητα

Μεγαλύτερο ή ίσο με 99,95 τοις εκατό

Πάχος

5 mm-50mm

Πλάτος

Μικρότερο ή ίσο με 1200 mm

Μήκος

10mm-2000mm

Διάμετρος

63 mm, 100 mm, 105 mm, 160 mm

Πυκνότητα

7,2 g/cm3

Σχήμα

Ράβδος,Κύλινδρος,Δίσκος,Δαχτυλίδι,Σωλήνας

Επιφάνεια

Γυάλισμα, καθαρισμός αλκαλίων, λείανση, μαύρο οξείδιο κ.λπ.

Πιστοποίηση

ISO9001, COA, MSDS

Εικόνες στόχων για σκεπάσματα μετάλλου χρωμίου:

China Chromium Sputtering Target

Chromium Sputtering Target

Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχος ψεκασμού μετάλλου χρωμίου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση

Μπορεί επίσης να σας αρέσει

Αποστολή ερώτησής

(0/10)

clearall