Περιστροφικός στόχος νικελίου χρωμίου

Περιστροφή στόχου νικελίου χρωμίου

Οι περιστροφικοί στόχοι νικελίου χρωμίου κατασκευάζονται γενικά με τήξη και χύτευση, μετά από μια διαδικασία ηλεκτρόλυσης τριών στρωμάτων, καθώς και μια σειρά μηχανικών κατεργασιών όπως λείανση, λείανση, έλαση και κοπή, με καθαρότητα που κυμαίνεται από 99,5 τοις εκατό έως 99,99 τοις εκατό. Οι λεπτές μεμβράνες που διασκορπίζονται από τους Rotary Sputtering Targets Nickel Chromium έχουν χαμηλή εξάρτηση από τη θερμοκρασία, υψηλή ειδική αντίσταση, υψηλό συντελεστή ευαισθησίας, υψηλή ηλεκτρική και θερμική αγωγιμότητα, εξαιρετική αντοχή στην οξείδωση, ομοιόμορφη μικροδομή, λεία επιφάνεια χωρίς πόρους και καλή αντοχή κ.λπ. , έχει καλύτερες φυσικές και χημικές ιδιότητες. Στη βιομηχανία επικαλύψεων PVD ή CVD, οι Rotary Sputtering Targets Nickel Chromium και οι μεμβράνες του χρησιμοποιούνται ευρέως σε μεμβράνες ενίσχυσης επιφανειών όπως αντοχή στη φθορά, μείωση φθοράς, αντοχή στη θερμότητα και αντοχή στη διάβρωση, καθώς και σε γυαλί χαμηλής εκπομπής, μικροηλεκτρονική, μαγνητική εγγραφή , αντιστάσεις ημιαγωγών και λεπτής μεμβράνης και άλλες βιομηχανίες υψηλής τεχνολογίας.

Περιστροφικός στόχος νικελίου χρωμίου Προδιαγραφές:

Εικόνες στόχων περιστροφικού νικελίου χρωμίου:

Δημοφιλείς Ετικέτες: περιστροφικός στόχος νικελίου χρωμίου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση