Επίπεδοι Στόχοι Πυριτίου Τιτανίου

Περιγραφή Επίπεδων Στόχων Πυριτίου Τιτανίου

Το πυριτικό τιτάνιο είναι μια ανόργανη ένωση που παράγεται τυπικά με τη χρήση τεχνικών πυριτίου σε γραμμές πυριτίου και πολυπυριτίου για τη μείωση της αντίστασης φύλλου των τοπικών συνδέσεων τρανζίστορ. Τα Titanium Silicon Planar Sputtering Targets παράγονται γενικά με προηγμένη τεχνολογία HIP, η οποία έχει μια σειρά από πλεονεκτήματα όπως υψηλή σκληρότητα, χαμηλή φθορά, εξαιρετική αντοχή σε θερμικό σοκ, υψηλή καθαρότητα, λεπτόκοκκο και ομοιόμορφο κόκκο, μεγάλη διάρκεια ζωής, υψηλή αντοχή στην οξείδωση και υψηλή επίστρωση ποιότητα. Το Titanium Silicon Planar Sputtering Targets είναι ένα εξαιρετικό υλικό για μεταλλική επίστρωση. Τα εργαλεία υλικού που επικαλύπτονται από αυτό είναι πολύ ανθεκτικά στη φθορά, έτσι ώστε να μπορούν να λειτουργούν σε υψηλές ταχύτητες κοπής και μπορούν ακόμη και να επεξεργάζονται πολύ σκληρά κράματα νικελίου και υλικά τιτανίου. Τα Titanium Silicon Planar Sputtering Targets είναι επίσης πολύ κατάλληλα για εφαρμογή στη βιομηχανία ημιαγωγών, διακόσμηση, οθόνη, συσκευές LED και φωτοβολταϊκά, επικάλυψη γυαλιού και άλλες βιομηχανίες.

Προδιαγραφές Επίπεδων Στόχων Πυριτίου Titanium:

Εικόνες επίπεδων στόχων από τιτάνιο πυριτίου:

Δημοφιλείς Ετικέτες: επίπεδοι στόχοι εκτόξευσης πυριτίου τιτανίου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένος, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση