Στρογγυλός στόχος βολφραμίου

Περιγραφή & Εφαρμογή στόχου βολφραμίου Round Sputtering

Ο στόχος είναι ένα από τα απαραίτητα υλικά για την τεχνολογία sputtering magnetron και η απόδοση του στόχου καθορίζει λίγο πολύ την απόδοση και την ποιότητα του εναποτιθέμενου φιλμ. Το Tungsten Round Sputtering Target έχει το υψηλότερο σημείο τήξης μεταξύ όλων των μεταλλικών στοιχείων και έχει τα πλεονεκτήματα της υψηλής πυκνότητας, υψηλής καθαρότητας, ομοιόμορφης εσωτερικής δομής, καλής σταθερότητας υψηλής θερμοκρασίας, ισχυρής αντίστασης στη μετανάστευση ηλεκτρονίων, ισχυρής αντοχής στη διάβρωση και μεγάλης διάρκειας ζωής. Ο Στρογγυλός Στόχος Σκόπευσης Βολφραμίου παράγεται γενικά με τήξη κενού και θερμή πίεση, ακολουθούμενη από έλαση, κοπή και ανόπτηση. Χρησιμοποιείται πιο συχνά στη βιομηχανία ηλεκτρονικών και ηλιακής ενέργειας. Οι Στόχοι Στρογγυλής Σκόπευσης Βολφραμίου που παράγονται από την εταιρεία μας μπορούν επίσης να χρησιμοποιηθούν σε βιομηχανίες διασκορπισμού πλάσματος, αεροδιαστημικής, πετροχημικών, επικάλυψης γυαλιού ημιαγωγών, κατασκευών και αποθήκευσης οπτικών πληροφοριών.

Στρογγυλός στόχος βολφραμίουΠροδιαγραφές:

Εικόνες στόχων με στρογγυλό ψεκασμό βολφραμίου:

Δημοφιλείς Ετικέτες: Στρογγυλός στόχος βολφραμίου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση