Το Nb2O5 Sputtering Target είναι ένας επίπεδος στόχος κατασκευασμένος από υλικό οξειδίου του νιοβίου μέσω μιας διαδικασίας μεταλλουργίας σκόνης. Το φιλμ οξειδίου που σχηματίζεται από αυτό είναι ομοιόμορφης ποιότητας δεν αντιδρά με άλλες ουσίες στον αέρα και έχει μια διαρκή προστατευτική δράση. Το Nb2O5 Sputtering Target χρησιμοποιείται κυρίως σε υλικά επιφανειακής μηχανικής, όπως ναυπηγική, χημική βιομηχανία, οθόνη υγρών κρυστάλλων (LCD) και ανθεκτική στη θερμότητα, ανθεκτική στη διάβρωση και βιομηχανίες επικάλυψης υψηλής αγωγιμότητας, ηλιακή βιομηχανία λεπτής μεμβράνης, βιομηχανία γυαλιού χαμηλής εκπομπής , βιομηχανία επίπεδων οθονών, βιομηχανία οπτικών επικαλύψεων, βιομηχανία εργαλείων και διακοσμητικών επικαλύψεων.

Nb2O5 Sputtering Target Χαρακτηριστικά

1. Οπτικές ιδιότητες: Το φιλμ οξειδίου του νιοβίου έχει εξαιρετικές οπτικές ιδιότητες, μικρή απώλεια οπτικού κυματοδηγού και εξαιρετική ηλεκτροχρωμική απόδοση. Αυτό το υλικό μπορεί να χρησιμοποιηθεί για την παραγωγή προϊόντων οπτικής επίστρωσης υψηλής απόδοσης.

2. Χημική σταθερότητα και ηλεκτρικές ιδιότητες

Το οξείδιο του νιοβίου έχει καλή χημική σταθερότητα και ηλεκτρικές ιδιότητες και είναι κατάλληλο για εφαρμογές που απαιτούν υψηλή σταθερότητα και εξαιρετική αγωγιμότητα.

3. Απόδοση υψηλής θερμοκρασίας: Το οξείδιο του νιοβίου έχει πολύ υψηλό σημείο τήξης, το οποίο του επιτρέπει να διατηρεί καλή απόδοση σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας.

4. Υψηλή καθαρότητα και συνοχή Η καθαρότητα των στόχων νιοβίου μπορεί να φτάσει περισσότερο από 99,95%, με μικρό μέγεθος κόκκων, καλή δομή ανακρυστάλλωσης και καλή τριαξονική συνοχή. Αυτό καθιστά την ποιότητα του παραγόμενου φιλμ οξειδίου ομοιόμορφη και την απόδοση σταθερή.

Nb2O5 Sputtering Target Εφαρμογή

1. Οπτική επίστρωση: στην παραγωγή βιομηχανιών οπτικών υαλοπινάκων και επίπεδων πάνελ υψηλής απόδοσης. Χρησιμοποιείται για την κατασκευή φίλτρων οπτικών παρεμβολών, ηλεκτροχημικών μεμβρανών, αισθητήρων αερίων κ.λπ.

2. Βιομηχανία επίπεδων οθονών: χρησιμοποιείται για την παραγωγή φιλμ AR (αντι-ανακλαστικών και αντι-ανακλαστικών), τα οποία μπορούν να αυξήσουν σημαντικά τη μετάδοση του φωτός των συσκευών οθόνης, να μειώσουν την αντανάκλαση και να κάνουν τις εικόνες πιο καθαρές.

3. Ηλιακά κύτταρα: Το σύστημα ηλεκτρικού φιλμ που χρησιμοποιείται για την κατασκευή ηλιακών κυψελών λεπτής μεμβράνης συμβάλλει στη βελτίωση της απόδοσης των ηλιακών κυψελών.

4. Τεχνολογία αποθήκευσης σκληρού δίσκου: Στην ανάπτυξη σκληρών δίσκων υψηλής πυκνότητας και μεγάλης χωρητικότητας, χρησιμοποιούνται γιγάντια υλικά μαγνητοαντιστατικών φιλμ. Αυτά τα υλικά παίζουν βασικό ρόλο στην απόδοση ανάγνωσης και εγγραφής των σκληρών δίσκων.

5. Αρχιτεκτονική και επίστρωση γυαλιού αυτοκινήτων: Επικάλυψη που χρησιμοποιείται για αρχιτεκτονικά γυαλιά και γυαλί αυτοκινήτων για τη βελτίωση της αντοχής στην υπεριώδη ακτινοβολία και των θερμομονωτικών ιδιοτήτων αυτών των υλικών.

Προδιαγραφές στόχου sputtering Nb2O5:

Υλικό	Nb2O5
Εμφάνιση	Κρυστάλλινο Μασίφ, Γκρι-Μαύρο
Καθαρότητα	Nb Μεγαλύτερο ή ίσο με 99,95%
Πυκνότητα	4,47 g/cm³
Μέγεθος	450 x 300 x 12 mm
Πάχος	1-20χιλ
Σημείο Τήξης	1512 μοίρες (2754 βαθμοί F)
Σχήμα	Πλάκες, Στόχοι βημάτων
Πιστοποίηση	ISO9001

Nb2O5 sputtering στόχος Εικόνα

Niobium Oxide Nb2O5 Sputtering Targets

Niobium Oxide Target

Δημοφιλείς Ετικέτες: nb2o5 sputtering target, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση