Τιτάνιο Αλουμίνιο Sputtering Target

Περιγραφή στόχου με επιμετάλλωση αλουμινίου τιτανίου

Ο στόχος διασκορπισμού αναφέρεται στην πρώτη ύλη που χρησιμοποιείται στη διαδικασία εναπόθεσης διασκορπισμού, η οποία αναφέρεται στη διαδικασία εκτόξευσης ατόμων από τον στερεό στόχο λόγω του βομβαρδισμού του στόχου από σωματίδια υψηλής ενέργειας και η κύρια λειτουργία του είναι η εναπόθεση λεπτής μεμβράνης στο αντικείμενο. Το Titanium Aluminium Sputtering Target είναι ένας πολύ συχνά χρησιμοποιούμενος στόχος, ο οποίος μπορεί να παραχθεί με τη μέθοδο χύτευσης και τη μέθοδο θερμής ισοστατικής συμπίεσης. Η συγκεκριμένη διαδικασία είναι: πρώτα λιώνουμε το μεταλλικό υλικό, μετά το ρίχνουμε σε καλούπι για να σχηματιστεί μια ράβδος, και στη συνέχεια σφυρηλατούμε, το έλασης, το πυροσυσσωματωμένο και το γυαλισμένο. Οι στόχοι αλουμινίου τιτανίου χρησιμοποιούνται γενικά για διακοσμητικές επιστρώσεις, οι οποίες μπορούν να εναποθέσουν φιλμ με καλή σκληρότητα, υψηλή φωτεινότητα, αντοχή στη διάβρωση, αντίσταση στην οξείδωση και καλή αντοχή στο ξεθώριασμα. Εάν χρειάζεστε, μπορούμε να παρέχουμε Στόχους Αλουμινίου Τιτανίου μαζί με πλάκα υποστρώματος χαλκού, μπορείτε να επικοινωνήσετε μαζί μας μέσω email.

Τιτάνιο Αλουμίνιο Sputtering TargetΠροδιαγραφές:

Εικόνες στόχων Titanium Aluminium Sputtering:

Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχος sputtering αλουμινίου τιτανίου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση