Επισκόπηση

Το Iridium Target είναι μια πηγή εκτόξευσης από μέταλλο ιριδίου υψηλής-καθαρότητας, ο πυρήνας του οποίου χρησιμοποιείται γιαφυσική εναπόθεση ατμών (PVD)για την προετοιμασία μεμβρανών πολύτιμων μετάλλων ανθεκτικών σε υψηλές-θερμοκρασίες, διάβρωση-και εξαιρετικά σταθερές για εφαρμογές σε ημιαγωγούς, αεροδιαστημική, καταλυτική επεξεργασία, οπτικά όργανα και άλλους τομείς. Η FANMETAL έχει περισσότερα από 20 χρόνια εμπειρίας στην παραγωγή και εξαγωγήστόχους ευγενών μετάλλων. Εάν θέλετε να μάθετε την αναλυτική τιμή, επικοινωνήστε μαζί μας μέσω email τώρα.

Χαρακτηριστικά ιριδίου

Εξαιρετικά-υψηλή καθαρότητα

Η καθαρότητα μπορεί να φτάσει το 99,99%-99,999% (βαθμός 4N-5N) και η συνολική ποσότητα ακαθαρσιών ελέγχεται κάτω από 10 ppm για να διασφαλιστεί η σταθερότητα της μετάδοσης ρεύματος και η ομοιομορφία του φιλμ και να αποφευχθούν ελαττώματα στρώματος φιλμ που προκαλούνται από ακαθαρσίες.

Σταθερότητα υψηλής θερμοκρασίας

Έχει χαμηλό συντελεστή θερμικής διαστολής, διατηρεί τη δομική ακεραιότητα σε περιβάλλοντα ακραίων θερμοκρασιών, διατηρεί χαμηλή θερμική αντίσταση σε υψηλές θερμοκρασίες, αποτρέποντας αποτελεσματικά τη συσσώρευση και την απώλεια θερμότητας.

αντοχή στη διάβρωση

Το ιρίδιο αντιστέκεται σχεδόν σε όλα τα οξέα, το aqua regia, τα λιωμένα μέταλλα και τα πυριτικά άλατα. Ένα πυκνό φιλμ οξειδίου σχηματίζεται στην επιφάνεια, απομονώνοντας αποτελεσματικά το εξωτερικό διαβρωτικό μέσο και προστατεύοντας το υπόστρωμα από τη διάβρωση. (Πηγή)

Μηχανικές ιδιότητες

Υψηλή πυκνότητα, υψηλή αντοχή σε εφελκυσμό, σκληρότητα Vickers Μεγαλύτερη ή ίση με 1670HV, διατηρώντας ακόμα υψηλή σκληρότητα σε υψηλή θερμοκρασία 2000 βαθμών. Και μπορεί να χρησιμοποιηθεί για μεγάλο χρονικό διάστημα χωρίς να προκαλεί ρύπανση στο περιβάλλον.

Εικόνες στόχου ιριδίου

Εφαρμογή Iridium Sputter Target

1. Κατασκευή ημιαγωγών και τσιπ

Το Iridium Sputtering Target χρησιμοποιείται για τη δημιουργία εξαιρετικά λεπτών στρωμάτων φραγμού που περιορίζουν την κίνηση των ιόντων χαλκού σε υποστρώματα πυριτίου κατά την κατασκευή ημιαγωγών και τσιπ. θα επιτρέψει μεγαλύτερη αξιοπιστία στις διασυνδέσεις τσιπ. και μπορεί να διασκορπιστεί με πάχος 0,5-3 nm για να ικανοποιήσει τις ανάγκες των ολοκληρωμένων κυκλωμάτων υψηλής πυκνότητας με λεπτές δομές, βελτιώνοντας έτσι την απόδοση των συσκευών.

2. Ηλεκτρονικά εξαρτήματα και τεχνολογία απεικόνισης

Η κατασκευή εύκαμπτων οθονών OLED για τη δημιουργία στρωμάτων ηλεκτροδίων, η κατασκευή υλικών επαφής μικρορελέ και διακόπτης, η παραγωγή ευαίσθητων εξαρτημάτων για αισθητήρες πίεσης και θερμοκρασίας υψηλής{0}ακρίβειας και τα κύρια υλικά ηλεκτροδίων που χρησιμοποιούνται σε συσκευές ραδιοσυχνοτήτων 5G είναι μερικές από τις εφαρμογές. Οι στόχοι ιριδίου μπορούν να βελτιώσουν σημαντικά την αποτελεσματικότητα της μετάδοσης σημάτων ενισχύοντας την απόδοση του σήματος και την ακρίβεια των μετρήσεων.

3. Οπτικά όργανα

Λόγω των ανακλαστικών ιδιοτήτων του, το ιρίδιο είναι εξαιρετικός υποψήφιος για μεσαίες- και μακρινές-επικαλύψεις υπέρυθρης ανάκλασης/ανακλάσεως σε ανιχνευτές υπέρυθρων, υπέρυθρα οπτικά (φακοί) και προϊόντα θερμικής απεικόνισης. Επιπλέον, λόγω της πολύ λείας επιφάνειάς τους, οι επικαλύψεις ιριδίου μπορούν να παρέχουν πρόσθετη προστασία επιφάνειας για οπτικά συστήματα υψηλού επιπέδου που εκτίθενται σε σκληρές περιβαλλοντικές συνθήκες, προκειμένου να αυξηθεί η διάρκεια ζωής των φακών.

4. Αεροδιαστημική

Οι συσκευές υπέρυθρης τηλεπισκόπησης και υπέρυθρης απεικόνισης δορυφόρων και διαστημικών ανιχνευτών βασίζονται σε μεμβράνες ιριδίου για την επίτευξη υψηλής υπέρυθρης ανάκλασης και σταθερότητας του διαστημικού περιβάλλοντος. Το ιρίδιο έχει υψηλό σημείο τήξης και εξαιρετική αντοχή στην οξείδωση σε υψηλές θερμοκρασίες και μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως προστατευτικό ή λειτουργικό φιλμ για εξαρτήματα υψηλής θερμοκρασίας{{1} και συσκευές που σχετίζονται με τον κινητήρα-.

5. Ενέργεια και κατάλυση

Το ιρίδιο χρησιμεύει ως καταλύτης σε συγκροτήματα ηλεκτροδίων μεμβράνης (MEAs) που χρησιμοποιούνται σε κυψέλες καυσίμου υδρογόνου. Η καταλυτική δραστηριότητα και η χημική σταθερότητα του ιριδίου ενισχύουν την αποτελεσματικότητα της ηλεκτρόλυσης για την παραγωγή υδρογόνου και τη μείωση της συνολικής ενέργειας που καταναλώνεται. Όταν χρησιμοποιείται ως υλικό ανόδου, το ιρίδιο παρέχει σημαντικά μεγαλύτερη ενεργή διάρκεια ζωής σε εφαρμογές χλωρίου-αλκαλίων σε σύγκριση με άλλα υλικά.

Επεξεργασία

(1) Προετοιμασία πρώτης ύλης: Επιλέξτε σκόνη ιριδίου υψηλότερης από 99,99%-για κοσκίνισμα και αφαίρεση ακαθαρσιών για να διασφαλίσετε ομοιόμορφη καθαρότητα σκόνης και μέγεθος σωματιδίων.
(2) Χύτευση ψυχρής έκθλιψης: Η σκόνη ιριδίου φορτώνεται σε καλούπι και συμπιέζεται εν ψυχρώ υπό υψηλή πίεση για να δημιουργήσει ένα πορώδες πράσινο κενό με μια ορισμένη αντοχή.
(3) Προ-πήξη: θέρμανση σε χαμηλή θερμοκρασία σε κενό ή προστατευτική ατμόσφαιρα για την απομάκρυνση του αερίου μέσα στο σώμα και την προκαταρκτική στερεοποίηση.
(4) Θερμή πίεση/θερμή ισοστατική συμπίεση: το σώμα συμπυκνώνεται υπό υψηλή θερμοκρασία και πίεση για να ληφθούν μπιγιέτες ιριδίου υψηλής-πυκνότητας, χαμηλού-πορώδους.
(5) Θερμική επεξεργασία: μέσω σφυρηλάτησης, έλασης ή θερμικής επεξεργασίας, εξευγενισμού των κόκκων, βελτίωσης της ομοιομορφίας της δομής και μείωσης της εσωτερικής καταπόνησης.
(6) Κατεργασία ακριβείας: η κοπή, η λείανση και η στίλβωση σύρματος επεξεργάζονται σε κενά στόχων που πληρούν τις απαιτήσεις μεγέθους, επιπεδότητας, και τραχύτητας.
(7) Συγκόλληση πίσω πλάκας(προαιρετικό): συνδέστε το υλικό-στόχο στην οπίσθια πλάκα από χαλκό, μολυβδαίνιο και άλλες πλάκες πλάτης για να εξασφαλίσετε καλή ηλεκτρική και θερμική αγωγιμότητα κατά τη διάρκεια της ψεκασμού.
(8) Καθαρισμός και δοκιμή συσκευασίας: καθαρισμός με υπερήχους για την αφαίρεση λαδιού και σκόνης, αφού περάσει η καθαρότητα, η πυκνότητα, η μη καταστροφική δοκιμή και άλλες δοκιμές, καθαρίστε τη συσκευασία κενού.

σχετικές Ειδήσεις

Iridium Sputtering Target, Iridium Target To Germany

Πρόσφατα, παρείχαμε μια παρτίδα στόχων ιριδίου υψηλής-καθαρότητας σε Γερμανούς πελάτες για να τους βοηθήσουμε να αναβαθμίσουν τις βιομηχανίες τους στη βιομηχανία ημιαγωγών. Έχουμε δυνατότητες προσαρμογής υψηλότερης ποιότητας, ταχύτερους χρόνους παράδοσης και πιο ανταγωνιστικές τιμές από τους προηγούμενους προμηθευτές των πελατών μας στην Ιαπωνία και τις Ηνωμένες Πολιτείες. Μετά την παραλαβή των αγαθών, οι πελάτες μίλησαν με θετικά λόγια για τα προϊόντα και τις υπηρεσίες μας και αναμένεται να έχουν-σε βάθος συνεργασία. Στο μέλλον, η FANMETAL θα συνεχίσει να βελτιώνει την τεχνολογία προϊόντων και τις δυνατότητες προσαρμογής, να βελτιστοποιεί τις διαδικασίες, να μειώνει το κόστος, να εστιάζει στη διάταξη αγορών υψηλών-τερμάτων στην Ευρώπη και τις Ηνωμένες Πολιτείες, να δημιουργεί ένα πλήρες διεθνές δίκτυο πωλήσεων και υπηρεσιών και να προωθεί την υψηλή-ποιότητα "παγκοσμιοποίηση" των εγχώριων στόχων.

εταιρικό προφίλ

ΦΑΝΜΕΤΑΛ

Η XINXIANG FANMETAL TECH CO LTD δραστηριοποιείται κυρίως στην παραγωγή και τις πωλήσεις κράματος βολφραμίου, κράματος μολυβδαινίου, τσιμεντοειδούς καρβιδίου, στόχου εκτόξευσης, κράματος τιτανίου, μετάλλου ζιρκονίου, ιριδίου και Stellite. Οι κύριοι υπάλληλοι παραγωγής, τεχνικής και πωλήσεων της FANMETAL διαθέτουν εμπειρία 10-30 ετών, με επιδέξια μηχανική επεξεργασία, επεξεργασία επιφανειών, καθώς και λύσεις πωλήσεων τελικών προϊόντων και εξυπηρέτησης πελατών. Μπορεί να βοηθήσει τους πελάτες να λύσουν διάφορα προβλήματα που αντιμετωπίζουν κατά την παραγωγή και χρησιμοποιείται για τη βελτίωση της απόδοσης.

Διασφάλιση Ποιότητας & Συμμόρφωση

Μπορούμε να επιτύχουμε την υψηλότερη καθαρότητα που απαιτούν οι πελάτες μας και μπορούμε να παρέχουμε πιστοποίηση ISO 9001, Πιστοποιητικό Προέλευσης και αναφορές MTC.

Προηγμένος Εξοπλισμός

Είμαστε εξοπλισμένοι με τον πιο πρόσφατο εξοπλισμό πυροσυσσωμάτωσης, κέντρο κατεργασίας CNC και εξοπλισμό επιθεώρησης και ανάλυσης. Και οι τεχνικοί έχουν επίσης περισσότερα από 20 χρόνια επαγγελματικής εμπειρίας.

Ανταγωνιστικές Τιμές

Σε σύγκριση με άλλους Ευρωπαίους και Αμερικανούς προμηθευτές, είμαστε σε θέση να παρέχουμε προϊόντα υψηλής ποιότητας-μειώνοντας παράλληλα τους προϋπολογισμούς των πελατών. Και το φορτίο είναι επίσης πολύ οικονομικό-.

Προσαρμοσμένη εξυπηρέτηση

Μπορούμε να προσαρμόσουμε την παραγωγή σύμφωνα με τα σχέδια του πελάτη και μπορούμε επίσης να σχεδιάσουμε και να επεξεργαστούμε σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη.

FAQ

Ερ.: Ποια είναι η υψηλότερη καθαρότητα των στόχων σας κατά ιριδίου; Πώς μπορείτε να το αποδείξετε;

Α: Η υψηλότερη καθαρότητα των στόχων μας με ιρίδιο (Ir) είναι 99,999% (5Ν). Παρέχουμε πιστοποιητικό ανάλυσης (COA) από-εργαστήρια τρίτων, συμπεριλαμβανομένων των αποτελεσμάτων δοκιμών από το GDMS (Glow Discharge Mass Spectrometry) και τη δοκιμή ICP, για την επαλήθευση της περιεκτικότητας σε ακαθαρσίες και την εγγύηση της καθαρότητας του υλικού.

Ε: Πώς επηρεάζει το μέγεθος των κόκκων την απόδοση της κατάδυσης; Πώς ελέγχετε το μέγεθος των κόκκων στη διαδικασία σας;

Α: Το ομοιόμορφο και λεπτό-μέγεθος κόκκων εξασφαλίζει σταθερό ρυθμό εναπόθεσης, σταθερό πάχος μεμβράνης, χαμηλή παραγωγή σωματιδίων και ομοιόμορφη πυκνότητα μεμβράνης κατά τη διάρκεια της ψεκασμού.
Ελέγχουμε με ακρίβεια το μέγεθος των κόκκων μέσω βελτιστοποιημένης προεπεξεργασίας σκόνης, συμπίεσης εν κενώ / HIP πυροσυσσωμάτωσης και θερμικής επεξεργασίας μετά την{0}}πήξη, επιτυγχάνοντας λεπτή, ομοιόμορφη και χαμηλή{1}}μικροδομή ελαττωμάτων για τη διασφάλιση λεπτών μεμβρανών υψηλής-ποιότητας.

Ε: Ποια σχήματα και διαστάσεις είναι διαθέσιμα για τους στόχους ιριδίου σας;

Α: Μπορούμε να προσαρμόσουμε τους στόχους διασκορπισμού ιριδίου σε διάφορα σχήματα, όπως στρογγυλά, επίπεδα ορθογώνια, περιστροφικά, κυκλικά δακτυλιοειδή, στόχους σε σχήμα βήματος-και προσαρμοσμένα ειδικά προφίλ.
Οι διαστάσεις είναι προσαρμόσιμες σύμφωνα με τα σχέδια πελατών, καλύπτοντας τυπικά και μη{0}}μεγέθη από μικρούς εργαστηριακούς στόχους έως στόχους βιομηχανικής επίστρωσης μεγάλης-κλίμακας.

Ε: Πώς να βελτιώσετε το ποσοστό χρησιμοποίησης των στόχων ιριδίου κατά τη διάρκεια της ψεκασμού;

Α: Για να αυξήσετε τη στοχευόμενη χρήση, συνιστούμε:

Χρησιμοποιώντας περιστροφικούς κυλινδρικούς στόχους ιριδίου αντί για επίπεδους στόχους, οι οποίοι μπορούν να βελτιώσουν σημαντικά τη χρήση.
Υιοθέτηση στόχων υψηλής-πυκνότητας, ομοιόμορφης μικροδομής για τη μείωση της μη φυσιολογικής διάβρωσης και των σωματιδίων.
Βελτιστοποίηση του σχεδιασμού του μαγνητικού πεδίου μαγνητρονίου και των παραμέτρων διαδικασίας ψεκασμού για την επίτευξη πιο ομοιόμορφης διάβρωσης.
Παρέχουμε επίσης υψηλής-ομοιομορφίας στόχους ιριδίου για την υποστήριξη υψηλότερης χρήσης στην πραγματική παραγωγή.

Ε: Ποιο είναι το κόστος αποστολής σας;

Α: Αυτό εξαρτάται κυρίως από το βάρος, τον όγκο, την απόσταση από τον προορισμό και το μέγεθος της συσκευασίας. Θα κάνουμε το καλύτερο δυνατό για να επικοινωνήσουμε με την εταιρεία》για να σας βοηθήσουμε να λάβετε το πιο λογικό κόστος αποστολής.

Ε: Ποιος είναι ο χρόνος παράδοσής σας;

Α: Η μέθοδος αποστολής μας είναι κυρίως αεροπορικώς ή θαλάσσης. Αφού τελειώσει το προϊόν, θα χρησιμοποιήσουμε ξύλινα, πλαστικά ή χαρτοκιβώτια για σφιχτή συσκευασία και επίσης θα βάλουμε μερικά μαλακά υλικά για να αποτρέψουμε τη ζημιά του προϊόντος. Θα σας το παραδώσουμε το συντομότερο δυνατό, εντός 20-30 ημερών.