+8613140018814

Γνώσεις σχετικά με το Target Back Plate

Oct 11, 2023

Από δομική άποψη, ο στόχος αποτελείται κυρίως από δύο μέρη: "κενό στόχο" και "πίσω πλάκα". Το τυφλό στόχο είναι το υλικό στόχο που βομβαρδίζεται από δέσμη ιόντων υψηλής ταχύτητας. Αποτελεί το βασικό μέρος του στόχου εκτόξευσης και περιλαμβάνει έλεγχο προσανατολισμού μετάλλων και κόκκων υψηλής καθαρότητας. Η πίσω πλάκα παίζει κυρίως το ρόλο της στερέωσης του στόχου εκτόξευσης και περιλαμβάνει τη διαδικασία συγκόλλησης. Επί του παρόντος, τα κοινά υλικά οπίσθιας πλάκας στόχου εκτόξευσης περιλαμβάνουν κυρίως υλικά οπίσθιας πλάκας σωλήνων χωρίς οξυγόνο, κράμα χαλκού, μολυβδαίνιο και ανοξείδωτο χάλυβα.

1. Λόγοι για την τοποθέτηση του backplate
Το συγκρότημα στόχο αποτελείται από ένα τεμάχιο στόχου με απόδοση σύνθετης κατάδυσης και ένα οπίσθιο επίπεδο που συνδυάζεται με το τυφλό στόχο με συγκόλληση. Κατά τη διαδικασία εκτόξευσης, το συγκρότημα στόχου βρίσκεται σε σκληρό περιβάλλον εργασίας. Η μία πλευρά του οπίσθιου επιπέδου ψύχεται έντονα από μια συγκεκριμένη πίεση νερού ψύξης, ενώ η μία πλευρά του κενού στόχου βρίσκεται σε περιβάλλον κενού υψηλής θερμοκρασίας, έτσι σχηματίζεται μια τεράστια διαφορά πίεσης στις απέναντι πλευρές του συγκροτήματος στόχου. Επιπλέον, η μία πλευρά του στόχου βομβαρδίζεται από διάφορα σωματίδια σε ηλεκτρικό πεδίο υψηλής τάσης και ισχυρό μαγνητικό πεδίο και παράγεται πολλή θερμότητα.
Σε ένα τόσο σκληρό περιβάλλον, προκειμένου να εξασφαλιστεί η σταθερότητα της ποιότητας της μεμβράνης και η ποιότητα του συγκροτήματος στόχου, η ποιότητα της ράβδου και του οπίσθιου επιπέδου στόχου και ο ρυθμός συγκόλλησης γίνονται όλο και πιο απαιτητικοί, διαφορετικά είναι εύκολο να οδηγήσεις στην παραμόρφωση και το ράγισμα του συγκροτήματος στόχου υπό θερμές συνθήκες, το οποίο επηρεάζει την ποιότητα του φιλμ και προκαλεί ακόμη και ζημιά στη βάση εκτόξευσης.

2. Υλικά για την κατασκευή backplane
Η πλάκα στήριξης χρησιμοποιείται κυρίως για τη στερέωση του υλικού στόχου εκτόξευσης και πρέπει να έχει καλή ηλεκτρική και θερμική αγωγιμότητα. Κατά τη διαδικασία επικάλυψης με ψεκασμό με μαγνητρόνιο, ο στόχος πρέπει να αντέχει τόσο την πίεση του νερού ψύξης στο πίσω μέρος όσο και την αρνητική πίεση κενού στο μπροστινό μέρος. Τα backplane από χαλκό και κράμα χαλκού επιλέγονται συχνά ως σανίδες βάσης στόχου επειδή έχουν τα ακόλουθα πλεονεκτήματα:
(1) Υψηλή θερμική αγωγιμότητα: Μπορεί να μεταφέρει αποτελεσματικά τη θερμότητα που παράγεται στην επιφάνεια στόχο κατά τη διάρκεια της διαδικασίας ψεκασμού στο σύστημα ψύξης. Αυτό βοηθά στη διατήρηση της θερμοκρασίας του στόχου σταθερή και αποτρέπει το ράγισμα του στόχου ή την υποβάθμιση της απόδοσης λόγω υπερθέρμανσης.
(2) Έχει υψηλή ηλεκτρική αγωγιμότητα: Μπορεί να βελτιώσει την απόδοση αγωγιμότητας ρεύματος κατά τη διάρκεια της διαδικασίας ψεκασμού. Αυτό βοηθά στη μείωση των απωλειών αντίστασης μεταξύ του στόχου και του συστήματος ψεκασμού μάγνητρον, βελτιώνοντας έτσι την απόδοση της ψαλίδας.
(3) Υψηλή μηχανική αντοχή: μπορεί να παρέχει σταθερή υποστήριξη. Αυτό βοηθά να διασφαλιστεί ότι ο στόχος δεν θα ραγίσει λόγω κραδασμών ή καταπόνησης κατά τη διάρκεια της διαδικασίας εκτόξευσης.
(4) Ομοιόμορφη εκτόξευση: Η πίσω πλάκα χαλκού μπορεί να βελτιώσει την κατανομή του ηλεκτρομαγνητικού πεδίου του στόχου, επιτυγχάνοντας έτσι πιο ομοιόμορφη εκτόξευση και βελτιώνοντας την ομοιομορφία της μεμβράνης.
(5) Επεκτείνετε τη διάρκεια ζωής του στόχου: Λόγω της υψηλής θερμικής αγωγιμότητας και ηλεκτρικής αγωγιμότητας της πλάκας στήριξης χαλκού, η θερμοκρασία λειτουργίας και η απώλεια αντίστασης του στόχου μπορούν να μειωθούν, επιβραδύνοντας έτσι τη φθορά του στόχου και επεκτείνοντας διάρκεια ζωής.

3. Διαδικασία δέσμευσης Backplane
(1) Προεπεξεργαστείτε την επιφάνεια του στόχου και του πίσω στόχου πριν από τη δέσμευση.
(2) Στερεώστε τον πίσω στόχο στο τραπέζι θέρμανσης, τοποθετήστε τον στόχο στην πίσω πλάκα και θερμάντε τον στη θερμοκρασία δέσμευσης.
(3) Μεταλλώστε τον στόχο και τον πίσω στόχο και κολλήστε τον στόχο στη χάλκινη πίσω πλάκα.
(4)Στερεώστε τον στόχο και τον πίσω στόχο, τοποθετήστε ένα αντίβαρο στην επιφάνεια του στόχου μακριά από τη χάλκινη πλάκα στήριξης και αφαιρέστε το αντίβαρο αφού κρυώσει ο στόχος.
(5) Ψύξη μετά την επεξεργασία.

Copper Sputtering Targets

Copper Target Back Plates

Αποστολή ερώτησής