Στόχος οξειδίου του νιοβίου

Περιγραφή στόχου οξειδίου του νιοβίου

Η τεχνολογία Sputtering επιτρέπει την εναπόθεση μεμβρανών εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας διασκορπισμένου μετάλλου ή υλικού οξειδίου σε άλλο στερεό υπόστρωμα. Οι μεμβράνες Nb2O5 παρασκευάζονται με ψεκασμό και διερευνάται η εφαρμογή υλικών οξειδίου του νιοβίου σε διηλεκτρικά υψηλής διηλεκτρικής, αντιανακλαστικές επικαλύψεις και υλικά ευαίσθητα στα αέρια. Το Niobium Oxide Target είναι γενικά κατασκευασμένο από υλικό πεντοξειδίου του νιοβίου μέσω επεξεργασίας μεταλλουργίας σκόνης ή τεχνολογίας sputtering magnetron. Έχει υψηλή πυκνότητα, υψηλή καθαρότητα, ελάχιστο μέσο μέγεθος κόκκου, καλή ηλεκτροχημική σταθερότητα και χαρακτηριστικά ηλεκτρονικής μετάδοσης, υψηλό δείκτη διάθλασης και χαμηλή διασπορά, αντοχή σε υψηλή θερμοκρασία, αντοχή στη διάβρωση, ανθεκτικότητα και άλλες εξαιρετικές φυσικές και χημικές ιδιότητες.

Το Niobium Oxide Target μπορεί όχι μόνο να χρησιμοποιηθεί για την παρασκευή μεμβρανών, νανοσυρμάτων και άλλων νανοδομών από οξείδιο του νιοβίου υψηλής ποιότητας, αλλά και για την προετοιμασία ηλεκτροχημικών συσκευών όπως αποδοτικά ηλιακά κύτταρα και μπαταρίες ιόντων λιθίου, καθώς και για την προετοιμασία θερμικής προστασίας και αντοχής στη διάβρωση υλικά επίστρωσης.

Προδιαγραφές στόχου οξειδίου του νιοβίου:

Εικόνες στόχου οξειδίου του νιοβίου

Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχος οξειδίου του νιοβίου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση