Υψηλής καθαρότητας Mo Sputter Target
Υψηλής καθαρότητας Mo Sputter Target
Η εταιρεία παράγει μεταλλικό κιβώτιο υψηλής καθαρότητας High Purity Mo Sputter Target με ανεξάρτητα δικαιώματα πνευματικής ιδιοκτησίας, τα οποία έχουν χρησιμοποιηθεί σε επικάλυψη με διασκορπισμό magnetron σε γυαλί εξοικονόμησης ενέργειας, έξυπνο γυαλί, ηλιακή ενέργεια λεπτής μεμβράνης, συσκευές προβολής, συσκευές ημιαγωγών και άλλες βιομηχανίες .
Χαρακτηριστικά υψηλής καθαρότητας Mo Sputter Target:
Εξαιρετική ηλεκτρική αγωγιμότητα.
Υψηλό σημείο τήξης και ισχυρή αντοχή στην οξείδωση.
αντοχή σε υψηλή θερμοκρασία.
Στόχος εκτόξευσης Molybdenum Mo 99,95% καθαρότητας
| Προϊόν: | Στόχος εκτόξευσης Molybdenum Mo |
| Καθαρότητα: | 99,95 τοις εκατό |
| Μέγεθος: | προσαρμοσμένη |
| Σχήμα: | στρογγυλό ή ορθογώνιο |
| Τεχνολογία: | Μεταλλουργία σκόνης |
| Εφαρμογή: | βιομηχανία επικαλύψεων pvd |
| Συσκευασία: | συσκευασία κενού, χαρτοκιβώτιο εξαγωγής ή ξύλινη θήκη εξωτερικά |
| Σχετικά προϊόντα: | Ti, Ni, Cu, Co, Cr, Al, Fe, V, Zn, Sn, W, Mo, Ta, Nb, Ge κ.λπ. |
Εικόνα στόχου Mo Sputter υψηλής καθαρότητας:
Υπηρεσίες που μπορούμε να παρέχουμε
1) Μπορεί να υπογραφεί επίσημη σύμβαση
2) Εγγύηση επιστροφής χρημάτων επτά ημερών
3) Μπορεί να υπογραφεί συμφωνία εμπιστευτικότητας
Επιπλέον: παρέχουμε όχι μόνο προϊόντα, αλλά και υπηρεσίες τεχνικής λύσης!
Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχος υψηλής καθαρότητας mo sputter, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση
Αποστολή ερώτησής
