Στόχος κατάδυσης μετάλλων

Στόχος διασκορπισμού χρωμίου υψηλής καθαρότητας

Υψηλής καθαρότητας Sputter Chromium Target Περιγραφή Το χρώμιο είναι ένα ατσάλι-γκρι, γυαλιστερό, σκληρό και εύθραυστο μέταλλο μετάπτωσης. Το High Purity Chromium Sputter Target παράγεται γενικά με

Προσθήκη στο ερώτημα
99,5% Βόριο Στόχοι Sputtering

99,5% Boron Sputtering Target Περιγραφή Ο στόχος επίστρωσης είναι μια πηγή ψεκασμού που σχηματίζει διάφορες λειτουργικές μεμβράνες στο υπόστρωμα με ψεκασμό υπό κατάλληλες συνθήκες διεργασίας μέσω

Προσθήκη στο ερώτημα
Στόχοι εκτόξευσης μολυβδαινίου (Mo).

Μολυβδαίνιο (Mo) Sputtering Στόχοι Περιγραφή Ως τεχνολογία αιχμής προετοιμασίας υλικού λεπτής μεμβράνης, το sputtering έχει δύο χαρακτηριστικά: υψηλή ταχύτητα και πολύ χαμηλή θερμοκρασία. Οι στόχοι

Προσθήκη στο ερώτημα
Μεταλλικός στόχος τιτανίου

Στόχος μετάλλου τιτανίου Περιγραφή Το Titanium Metal Target κατασκευάζεται κυρίως με τη μέθοδο τήξης ψύξης δέσμης ηλεκτρονίων. Έχει υψηλή καθαρότητα, υψηλή ειδική αντοχή, καλή σκληρότητα σε

Προσθήκη στο ερώτημα
Στόχοι νικελίου μετάλλου sputtering

Περιγραφή Στόχων νικελίου μετάλλου Περιγραφή Στη βιομηχανία, το νικέλιο χρησιμοποιείται συνήθως στην προετοιμασία κραμάτων, την παραγωγή μπαταριών και ως καταλύτη. Ειδικά στον τομέα των

Προσθήκη στο ερώτημα
Χρώμιο Μεταλλικοί Στόχοι Sputter

Στόχοι διασκορπισμού μετάλλου χρωμίου Περιγραφή Το χρώμιο έχει υψηλό σημείο τήξης και καλή αντίσταση στην οξείδωση, επιτρέποντας στον στόχο χρωμίου να παραμένει σταθερός σε περιβάλλοντα υψηλής

Προσθήκη στο ερώτημα
TiAl Στόχος από κράμα τιτανίου

TiAl Περιγραφή στόχου κράματος τιτανίου Ο στόχος διασκορπισμού αναφέρεται στην πρώτη ύλη που χρησιμοποιείται στη διαδικασία εναπόθεσης με ψεκασμό. Αναφέρεται στη διαδικασία κατά την οποία τα άτομα

Προσθήκη στο ερώτημα
Στόχοι PVD από κράμα αλουμινίου τιτανίου

Στόχοι PVD από κράμα αλουμινίου τιτανίου Περιγραφή Ο στόχος επίστρωσης είναι μια πηγή διασκορπισμού που σχηματίζει διάφορες λειτουργικές μεμβράνες στο υπόστρωμα με ψεκασμό υπό κατάλληλες συνθήκες

Προσθήκη στο ερώτημα
Στρογγυλός στόχος βορίου

Boron Round Sputter Target Περιγραφή Boron Round Sputter Target είναι ένα υλικό που χρησιμοποιείται για την προετοιμασία φιλμ. Είναι κατασκευασμένο από υλικά βοριδίου μέσω μεταλλουργίας σκόνης

Προσθήκη στο ερώτημα
Επίπεδος στόχος χρωμίου

Χαρακτηριστικά και εφαρμογή στόχου Επίπεδης Σκόπευσης Χρωμίου Το αρχικό στοιχείο χρωμίου πρέπει να καθαριστεί με μια σειρά διεργασιών όπως η τήξη σε υψηλές θερμοκρασίες, ο εξευγενισμός και η

Προσθήκη στο ερώτημα
99,95 τοις εκατό Χρώμιο Sputtering Στόχος

99,95 τοις εκατό Chromium Sputtering Target Χαρακτηριστικά & Εφαρμογή 99,95 τοις εκατό Chromium Sputtering Target είναι ένας μεταλλικός στόχος υψηλής καθαρότητας, ο οποίος μπορεί να χρησιμοποιηθεί

Προσθήκη στο ερώτημα
Χρώμιο Sputtering Στρογγυλοί Στόχοι

Χρώμιο Sputtering Στρογγυλοί στόχοι Περιγραφή Το μέταλλο χρώμιο χρησιμοποιείται κυρίως ως πρώτη ύλη για την παραγωγή διαφόρων κραμάτων. Η βιομηχανική παραγωγή μετάλλου χρωμίου υιοθετεί κυρίως δύο

Προσθήκη στο ερώτημα

Σπίτι 1 2 345 6 7 Η τελευταία σελίδα 4/10

Είμαστε γνωστοί ως ένας από τους κορυφαίους κατασκευαστές και προμηθευτές στόχων εκτόξευσης μετάλλων στην Κίνα. Εάν σκοπεύετε να αγοράσετε υψηλής ποιότητας μεταλλικό στόχο ψεκασμού με ανταγωνιστική τιμή, καλώς ήρθατε να λάβετε προσφορά από το εργοστάσιό μας. Επίσης, διατίθεται προσαρμοσμένη υπηρεσία.

(0/10)