Καθαρό Ζιρκόνιο Sputtering Target

Χαρακτηριστικά και εφαρμογή στόχου καθαρού ζιρκονίου

Το ζιρκόνιο χρησιμοποιείται ευρέως στη χημική βιομηχανία όπου υπάρχουν διαβρωτικές συνθήκες λόγω της εξαιρετικής αντοχής του στη διάβρωση. Επιπλέον, λόγω των ανώτερων ιδιοτήτων του σε υψηλή θερμοκρασία, σε συνδυασμό με τη χαμηλή του απορρόφηση νετρονίων, χρησιμοποιείται συχνά στην κατασκευή πυρηνικών αντιδραστήρων. Όταν το μεταλλικό ζιρκόνιο κατασκευάζεται σε Καθαρό Στόχο Διασκορπισμού Ζιρκονίου, μπορεί να χρησιμοποιηθεί επίστρωση με επικάλυψη ζιρκονίου για να σχηματιστεί ένα στρώμα μεταλλικής μεμβράνης ζιρκονίου στο υπόστρωμα στόχου και χρησιμοποιείται ευρέως σε διακοσμητικές επιστρώσεις, ημιαγωγούς, οπτικές επιστρώσεις και εργαλεία κοπής. Τα Pure Zirconium Sputtering Targets μπορούν να παρέχουν πολύ καλή αντιδιαβρωτική και υψηλή θερμοκρασία και προστασία επίστρωσης χαμηλής θερμοκρασίας για σημαντικά εξαρτήματα στη χημική βιομηχανία και την αεροδιαστημική βιομηχανία, η οποία έχει ξεπεράσει την αντοχή στη διάβρωση των υλικών τιτανίου σε κάποιο βαθμό. Να σημειωθεί ότι κατά την παραγωγική διαδικασία θα πρέπει να δοθεί προσοχή στην απομάκρυνση των ακαθαρσιών και στην απορρύπανση. Η καθαρότητα του στόχου σχετίζεται με τη δική του εξαιρετική απόδοση και ποιότητα επίστρωσης.

Προδιαγραφές στόχου καθαρού ζιρκονίου:

Εικόνες στόχων καθαρού ζιρκονίου:

Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχος καθαρού ζιρκόνιου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, χονδρική, τιμή, προσφορά, προς πώληση