Sputtering Target

Περιστροφικοί Στόχοι Ζιρκονίου

Περιστροφικοί Στόχοι Ζιρκονίου Περιγραφή Οι Περιστροφικοί Στόχοι Ζιρκονίου είναι κατασκευασμένοι από υλικό ζιρκονίου υψηλής καθαρότητας μετά από μια σειρά επεξεργασίας, με συγκεκριμένο μέγεθος και

Προσθήκη στο ερώτημα
Ζιρκόνιο 702 Επίπεδος στόχος

Zirconium 702 Επίπεδος Περιγραφή Στόχου Το ζιρκόνιο είναι ένα μεταλλικό στοιχείο με εξαιρετική αντοχή στη διάβρωση, υψηλό σημείο τήξης και καλές μηχανικές ιδιότητες, καθιστώντας το χρήσιμο σε μια

Προσθήκη στο ερώτημα
Zirconium 702 Round Target

Zirconium 702 Round Target Description Το ζιρκόνιο είναι ένα γυαλιστερό γκρι-λευκό ισχυρό μέταλλο μετάπτωσης που χρησιμοποιείται ευρέως στην πυρηνική βιομηχανία και την αεροδιαστημική βιομηχανία. Το

Προσθήκη στο ερώτημα
99,95% Ζιρκονίου Sputter Targets

99,95% Ζιρκονίου Στόχοι Sputter Περιγραφή Το Magnetron sputtering είναι μια νέα φυσική μέθοδος επίστρωσης ατμού, η οποία χρησιμοποιεί σύστημα ηλεκτρονίων για να εκπέμπει ηλεκτρόνια και να εστιάζεται

Προσθήκη στο ερώτημα
Στόχοι τιτανίου υψηλής καθαρότητας

Στόχοι τιτανίου υψηλής καθαρότητας Περιγραφή Το τιτάνιο είναι ένα παραμαγνητικό πυρίμαχο μέταλλο με ισχυρή σκληρότητα και υψηλή αντοχή, ειδικά σε περιβάλλον χωρίς οξυγόνο. Όσον αφορά τους στόχους,

Προσθήκη στο ερώτημα
Στόχος διασκορπισμού χρωμίου υψηλής καθαρότητας

Υψηλής καθαρότητας Sputter Chromium Target Περιγραφή Το χρώμιο είναι ένα ατσάλι-γκρι, γυαλιστερό, σκληρό και εύθραυστο μέταλλο μετάπτωσης. Το High Purity Chromium Sputter Target παράγεται γενικά με

Προσθήκη στο ερώτημα
99,5% Βόριο Στόχοι Sputtering

99,5% Boron Sputtering Target Περιγραφή Ο στόχος επίστρωσης είναι μια πηγή ψεκασμού που σχηματίζει διάφορες λειτουργικές μεμβράνες στο υπόστρωμα με ψεκασμό υπό κατάλληλες συνθήκες διεργασίας μέσω

Προσθήκη στο ερώτημα
Στόχοι εκτόξευσης μολυβδαινίου (Mo).

Μολυβδαίνιο (Mo) Sputtering Στόχοι Περιγραφή Ως τεχνολογία αιχμής προετοιμασίας υλικού λεπτής μεμβράνης, το sputtering έχει δύο χαρακτηριστικά: υψηλή ταχύτητα και πολύ χαμηλή θερμοκρασία. Οι στόχοι

Προσθήκη στο ερώτημα
Μεταλλικός στόχος τιτανίου

Στόχος μετάλλου τιτανίου Περιγραφή Το Titanium Metal Target κατασκευάζεται κυρίως με τη μέθοδο τήξης ψύξης δέσμης ηλεκτρονίων. Έχει υψηλή καθαρότητα, υψηλή ειδική αντοχή, καλή σκληρότητα σε

Προσθήκη στο ερώτημα
Στόχοι νικελίου μετάλλου sputtering

Περιγραφή Στόχων νικελίου μετάλλου Περιγραφή Στη βιομηχανία, το νικέλιο χρησιμοποιείται συνήθως στην προετοιμασία κραμάτων, την παραγωγή μπαταριών και ως καταλύτη. Ειδικά στον τομέα των

Προσθήκη στο ερώτημα
Χρώμιο Μεταλλικοί Στόχοι Sputter

Στόχοι διασκορπισμού μετάλλου χρωμίου Περιγραφή Το χρώμιο έχει υψηλό σημείο τήξης και καλή αντίσταση στην οξείδωση, επιτρέποντας στον στόχο χρωμίου να παραμένει σταθερός σε περιβάλλοντα υψηλής

Προσθήκη στο ερώτημα
TiAl Στόχος από κράμα τιτανίου

TiAl Περιγραφή στόχου κράματος τιτανίου Ο στόχος διασκορπισμού αναφέρεται στην πρώτη ύλη που χρησιμοποιείται στη διαδικασία εναπόθεσης με ψεκασμό. Αναφέρεται στη διαδικασία κατά την οποία τα άτομα

Προσθήκη στο ερώτημα

Σπίτι 1 2 345 6 7 Η τελευταία σελίδα 4/11

Είμαστε ευρέως γνωστοί ως ένας από τους κορυφαίους κατασκευαστές και προμηθευτές στόχων sputtering στην Κίνα. Εάν πρόκειται να αγοράσετε υψηλής ποιότητας στόχο sputtering με ανταγωνιστική τιμή, καλώς ήρθατε να λάβετε προσφορά από το εργοστάσιό μας. Επίσης, διατίθεται προσαρμοσμένη υπηρεσία.

(0/10)